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evg500系列键合机:evg501
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evg500系列键合机:evg501
更新时间:2023-05-08 11:27 企业会员
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 一、 简介

 

evg公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及九游ag登录中心网址的售后服务部,产品和服务遍及世界各地。

evg公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、soi 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。

目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于mems微机电系统/微流体器件,soi基片制造,3d封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。

evg公司是世界上**的基片键合设备制造商,其键合工艺被认定为mems领域的标准工艺。evg键合系统可实现阳极键合、热压键合、中间层粘着键合、 玻璃浆料键合、硅-硅直接键合、共晶键合及soi键合等所有键合工艺。evg键合设备型号齐全,从手动装片系统到全自动片盒送片多工艺室系统,可以满足不同客户的应用要求。无论手动/半自动装片系统, 键合工艺全部自动完成;而且,独特的基片夹具及键合室结构设计,可实现高精度的圆片键合;此外上/下极板为独立分别加热控制,*加热温度可达650度。

evg501是一款主要用于研发的高度灵活的键合系统,既可以处理很小的碎片也可以处理200mm的晶圆。可以支持各种形式的键合,如阳极键合、玻璃焊料键合、共晶、扩散、融合、焊接和粘结键合;也可以支持其他热处理过程如氧化物移除和高温烘烤等。evg501在夹具更换时非常方便,更换时间一般不超过5分钟,大大减少了客户的操作时间和培训费用,因此evg501是一款非常适合研发和小量生产的设备。

 

二、应用范围

主要应用于mems制造、微流体芯片、化合物半导体的薄片处理、晶圆级先进封装以及3d互联、tsv工艺等。

 

三、主要特点

u *化降低客户总拥有成本(tco)

u *键合温度450度,压力10kn

u **的硅片低压契型补偿系统以提高良率

u 温度均匀性: < /- 1% ;压力均匀性:< /- 5%

u 工艺菜单与其他键合系统通用

u 高真空度键合腔室 (可低至 10-5 mbar,使用分子泵)

u 开放式腔室设计便于快速转换和维护

u 基于windows 的控制软件和操作界面

u 最小化占地占地面积--- 200 mm键合系统占地 0.88 m2

 

四、技术参数

 

加热器尺寸=*晶片尺寸(mm)

150mm 或200mm

最小硅片直径

150mm加热器:单一小片或碎片;200mm加热器:100mm

键合卡盘/对准系统

150mm加热器

evg610,evg620,evg6200

200mm加热器

evg6200,mba300,smartview

键合腔

*接触压力

3.5kn,10kn,20kn

*温度

450℃

真空度

0.1mbar(标配),1e-5(可选)

阳极键合功率

0-2000v,0-50a

腔室个数

1

上料腔室

手动

工艺菜单

与其他键合设备兼容

 

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