evg610单面/双面光刻机-九游ag登录中心网址

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evg610单面/双面光刻机
更新时间:2023-05-08 11:27 企业会员
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 一、 简介

 

evg公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及九游ag登录中心网址的售后服务部,产品和服务遍及世界各地。

evg公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、soi 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。

目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于mems微机电系统/微流体器件,soi基片制造,3d封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。

evg610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统,可处理*200mm之内的各种规格的晶片。evg610支持各种标准的光刻工艺,例如:真空、软、硬接触和接近曝光;也支持其他特殊的应用,如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。evg610系统中的工具更换非常简便快捷,每次更换都可在几分钟之内完成,而不需要专门的工程人员和培训,非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。

 

二、应用范围

evg光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统(mems)、硅片凸点、化合物半导体等领域,涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。

 

三、主要特点

u 支持背面对准光刻和键合对准工艺

u 自动的微米计控制曝光间距

u 自动契型补偿系统

u 优异的全局光强均匀度

u 免维护单独气浮工作台

u 最小化的占地面积

u windows图形化用户界面

u 完善的多用户管理(用户权限、界面语言、菜单和工艺控制)

 

四、技术参数

 

衬底/晶片尺寸(mm)

小片--200mm,150mm*150mm,0.1-10mm 厚度

掩膜板*尺寸

*9'*9'

物镜间距

8-30mm连续可调

对准方式

上部对准,ccd

±0.5um

上部对准,目镜

可选

底部对准

可选

透过式红外对准

可选

键合对准

可选

原位对准校正

可选

工作台

精密微米计

手动

载片台

真空吸盘式,标配4寸,可扩至8寸

接触压力

5-80n可调

曝光

方式

接近式,软、硬、真空接触

分辨率

接触式<0.8um,接近式≥2um

波长

350-450nm,可选200nm

光强均匀性

≤2%

汞灯

350w,500w

纳米压印光刻

硬压头

可选

软压头

可选

 

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